Печь для роста графена - CVD-печь

Печь для роста графена - CVD-печь photo-1
Печь для роста графена - CVD-печь photo-2
Печь для роста графена - CVD-печь photo-3
Печь для роста графена - CVD-печь photo-4
Печь для роста графена - CVD-печь photo-5
Печь для роста графена - CVD-печь photo-6
Договороспособный MOQ: 1 Set (Цена договорная в зависимости от объема заказа и индивидуальных требований)
Ключевые характеристики
Получить актуальную цену
Название бренда:
SIOMM
Модельный номер:
CVD-1200G
Место производства:
Shanghai, China
Оплата и доставка
Способы оплаты:
Порт отгрузки:
Shanghai
Детали доставки:
Время доставки зависит от количества заказа.
Название бренда SIOMM
Модельный номер CVD-1200G
Место производства Shanghai, China

Технические характеристики

1) Лучший по соотношению цена-качество печь для роста графена - печь CVD.
2) Прост в эксплуатации, зарезервировано множество параметров роста.
3) CE ap

Мы - 100% китайский производитель, предлагаем вам цену производителя на печь для роста графена - печь CVD, экономьте свои затраты!

 

 

Graphene Growth Furnace - CVD furnace

 Graphene Growth Furnace - CVD furnace

Функции

 

 



  • Используется управление сенсорным экраном, прост в эксплуатации; зарезервировано множество параметров роста.
  • С двумя популярными режимами роста: вакуумным и атмосферным давлениемрежимом роста
  • Получение монокристаллического графена, размер которого может достигать нескольких миллиметров
  • Сертифицирован по стандартам ISO9001 и имеет сертификат CE
  • Предоставляются запасные части и обслуживание на всю жизнь

Технические характеристики

Модель CVD-1200G
Длина зоны постоянной температуры Одна зона: 200 мм; Две зоны: 100 мм/100 мм (по индивидуальному заказу)
Размер камеры образца Φ40/60/80 * 1200 мм (по индивидуальному заказу )
Мощность 2,5 КВт Температура: комнатная ~ 1200°C
Способы подачи Ручной
Соединитель Фланец KF из нержавеющей стали с системой водяного охлаждения
Газ роста Ar: чистота 99,999%, 40 л, с редуцирующим клапаном для инертного газа, расход: 0 - 1000 сккм;
H2: чистота 99,999%, 40 л, с редуцирующим клапаном для H2, расход: 0 - 200 сккм;
CH4: чистота 99,999%, 40 л, с редуцирующим клапаном, расход: 0 - 10 сккм (по индивидуальному заказу)
Система управления Температура, поток воздуха и вакуум контролируются с помощью ПК. Некоторые из этих функций можно управлять вручную.
Компьютер осуществляет реальное время управление и отображение всех экспериментальных параметров, связанных с ростом, автоматически
сохраняет экспериментальные данные.

Detailed Images

Graphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnace

Graphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnace

Company Information

Graphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnaceGraphene Growth Furnace - CVD furnace

Certifications

 Graphene Growth Furnace - CVD furnace

 

Отправить запрос этому поставщику

Сообщение
0/5000

Хотите лучшую цену? Опубликуйте запрос предложений сейчас!
Тип бизнеса
Производитель
Год основания
2013
Размер фабрики
1 000 - 3 000 квадратных метров
Общее количество сотрудников
51 - 100 человек

Вам также может понравиться